2024年11月22日，惠然科技有限公司在国家知识产权局申请了一项重要专利，旨在提高扫描电子显微镜（SEM）生成的图像质量。该专利涉及的方法、设备及存储介质，公开号为CN118982484A，申请日期为2024年10月。通过该技术，惠然科技将为SEM图像去噪提供一种高效的解决方案，极大提升了图像处理的精确性与应用价值。

为了设计高效率的超表面，构成超表面的材料必须在可见光波段范围内具有高折射率和低消光系数。该研究团队通过控制氢化和硅的无序性，开发了一种低损耗的氢化非晶硅（a-Si:H）材料，其在可见光波段具有低消光系数。