CVD SiC，即化学气相沉积碳化硅，是指通过化学气相沉积工艺生产的碳化硅材料。在此方法中，通常含有硅和碳的气态前体在高温反应器中发生反应并 ...

与 PVD 相比，CVD 工艺能够实现更复杂的薄膜成分与结构调控。 例如，采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术，在制备减反射薄膜时，可以引入 ...

2025年1月28日，金融界报道，艾克斯特朗欧洲公司获得了一项重要专利，名称为“CVD反应器和用于调节基板的表面温度的方法”，其授权公告号为CN114867889B，申请日期为2021年1月。这一专利的取得标志着CVD（化学气相沉积）技术在材料科学和电子制造领域可能迎来新的突破。本文将对此次专利的核心内容及其潜在影响进行深入探讨。

金融界2月7日消息，有投资者在互动平台向南大光电提问：请贵公司详细介绍一下前驱体是什么材料？公司回答表示：半导体前驱体材料是携带有目标元素，呈气态、易挥发液态或固态，具备化学热稳定性，同时具备相应的反应活性或物理性能的一类物质。半导体前驱体是ALD和CVD薄膜沉积工艺的核心材料，是用于形成符合半导体制造要求 ...

光电薄膜的生产工艺通常包括以下几个主要步骤 ... 沉积（PVD），如溅射和蒸发；化学气相沉积（CVD），如热CVD和等离子体增强CVD等。

流化床反应器（FB-CVD)属于公司当前的主营产品之一。反应器内的粉体材料在载气的带动下形成流化态，再进行包覆、烧结等工艺。以流化床为反应器的CVD工艺具有包覆均匀等特点。目前较为成熟的设备为小试、中试级设备。 小试流化床气相沉积反应器为公司*早 ...

【四方达：以复合超硬材料为核心打造战略产品体系，自主研发的mpcvd设备及cvd金刚石工艺得到批量验证】金融界1月23日消息，四方达披露投资者 ...

北京时间2025年02月11日03时15分，CVD设备（CVV.us）股票出现异动，股价大幅上涨5.57%。截至发稿，该股报3.79美元/股，成交量6.8989万股， 换手率 1.00%，振幅6.07%。

北京时间2025年02月05日02时38分，CVD设备（CVV.us）股票出现异动，股价急速下挫8.77%。截至发稿，该股报3.33美元/股，成交量9762股， 换手率 0.14%，振幅3.84%。